Energie für die nächste Dimension der Schichtdicke
PECVD Technik
Die PECVD Technik (Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition) ist ein Verfahren, bei dem im Vakuum ein Plasma gezündet wird. Dabei wird das eingeleitete Prozessgas aufgespaltet und es finden unter dem Einfluss chemischer Reaktionen die Bildung von dünnen, haftfesten Schichten auf dem zu behandelnden Werkstück statt.
Anwendungsgebiete:
- Halbleiterindustrie,
- Solarzellenproduktion
- Beschichtung von Glas und Keramiken
- Verschließschutz
Verfahren:
Mittels Hochfrequenz (13,56 MHz) oder MF-Pulsen (10 - 100kHz), werden die eigebrachten Reaktivgase aufgespaltet, (Plasma-Anregung), welche an der Werkstückoberfläche zu einer fest Schicht abgeschieden wird.
RF-Generatoren der Serie TN-RF 300W bis 2000W
Merkmale der TN-RF Serie
- Rackmontage
- Vollständig digitale Steuerung mit komfortablem und umfangreichem Bedienmenü
- APFC-Modul in der Eingangsleitung zur Verbesserung des Leistungsfaktors und Reduzierung von Oberschwingungen
- Stabiler und zuverlässiger Leistungsverstärker und DC-Regelungsmodul
- Nennleistung auch bei einer Stehwelle von 1,5 V
- Verschiedene optionale Kommunikationsschnittstellen für umfassende Steuerung
- Helles LCD-Display für intuitive Bedienung
- CEX-Phasensynchronisationsfunktion
- Dreifach programmierbare Analogausgänge
- Umfassende Schutzfunktionen
Bipolare Pulsgenaratoren der Serie MP2
Merkmale der MP2 Serie
- Rackmontage
- Frei einstellbare Puolsfrequenzen von DC bis zu 100kHz
- Einstellbare Puls Modi DC, Unipolare Pulse, Bipolare Pulse und frei programmierbare Pulsmuster
- Strom-, Spannungs- und Leistungsregelung
- Sehr schnelle ARC-Abschaltung < 2µs
- Verschiedene optionale Kommunikationsschnittstellen für umfassende Steuerung
- Graphik LCD-Display für intuitive Bedienung
- Synchronisation und Treiggersteuerung optional
- Umfassende Schutzfunktionen