MP1-HC-Serie
Unipolare HIPIMS Pulsgeneratoren
von 35A - 1500A Pulsstrom
Die Puls-Stromversorgungen der Serie MP1-HC erzeugen dank der kurzzeitig extrem hohen Strompulse - eine hochdichte Plasma-Intensität, wodurch eine hervorragende Beschichtungsqualität beim Hochleistungs-Impuls-Sputtern (HiPIMS) erreicht wird.
Der modularen Aufbau von DC-Leistungseinheit und Pulseinheit bietet eine Vielzahl an Kombinationen von unterschiedlichen Leistungsklassen mit ein und der selben Pulseinheit. Eine nachträgliche Erweiterung der DC-Leistung ist somit jederzeit möglich.
Die unipolaren HIPIMS-Pulsstromgeneratoren sind modular aufgebaut und bestehen aus einer DC-Leistungseinheit und der eigentlichen Pulseinheit, welche die Spannung mit einer frei einstellbaren Pulsfrequenz auf das Plasmasystem schaltet.
Das hocheffiziente ARC-Management lässt sich für jeden Beschichtungsprozess optimal einstellen, wodurch Schichtdefekte an der zu behandelnden Werkstoffoberfläche wirksam vermieden werden.
Sämtliche Puls- und Leistungsparameterwerte lassen sich über das übersichtliche Grafik-Display einstellen und ablesen. Selbstverständlich können diese Parameterwerte über eine Rechnerschnittstelle oder optional über Profibus über einen externen Rechner gesteuert werden.
Eigenschaften
- Hohe Spitzenleistung
- hoher Ionisierungsgrad
- effektive Kathoden-/Targetnutzung
- einfache Anpassung an bestehende Kathoden und Prozesse
- aktive Lichtbogenunterdrückung mit stabilem Sputterprozess
- einstellbare Pulsdauer und -frequenz
- gute stöchiometrische Schicht bei reaktiver Abscheidung
- minimale Schichtdefekte durch tropfenfreies Sputtern
- überlegene Schichtdichte und extreme Strukturkonformität
- ausgezeichnete Haftung und verringerte Rauheit
Flexibilität in der Frequenz- und Pulsformeinstellung
Bis zu 3 unterschiedliche Pulsformen einstellbar. Unipolar, DC, und frei programmierbare unipolare Pulsmuster
Frequenzeinstellung von DC, 0.05 Hz bis zu 100kHz
Vorteile
- Hohe Schichtraten
- Reduzierte thermische Belastung
- Reduzierung der ARC-Entstehung
- Hohe Schichtqualität durch unterschiedliche Duty-Cycle oder Frequenzeinstellungen
- Kontrollierte Materialverbindungen durch flexible unterschiedlichen Pulszeiteinstellungen für den positiven und den negativen Pulsausgängen beim Dual Magnetron Sputtern
- Hohe Prozessausbeute
3 einstellbare Pulsformen
Flexible ARC-Behandlung
- Hohe Schichtraten
- Reduzierte thermische Belastung
- Reduzierung der ARC-Entstehung
- Hohe Schichtqualität durch unterschiedliche Duty-Cycle oder Frequenzeinstellungen
- Hohe Prozessausbeute
Vorteile
- Kurze Prozesszeit
- Hohe Schichtqualität
- Hohe Prozessausbeute
- Niedrige Teilchen Kontamination
Zubehör
- Tigger-Synchronisationsmodul zur Synchronisation von mehreren Pulsgeneratoren der Serie MP1 und MP2, sowie zum zeitversetzten Pulsen über das Trigger-Eingangssignal.
- Profibus-Schnittstelle mit 15-pol Sub-D-Buchse
- Profibus-Schnittstelle mit Lichtwellenleiter-Übertragung
- Pulsstrom-Messaugang zur Visualisierung über ein Oszilloskop
- Pulsspannung-Messaugang zur Visualisierung über ein Oszilloskop