MP2-HC-Serie
Bipolare HIPIMS-Pulsgeneratoren von 35A - 1500A Pulsstrom (Höhere Leistungen auf Anfrage)
Die bipolaren HIPIMS-Pulsstromgeneratoren erzeugen - dank der kurzzeitig extrem hohen Strompulse - eine hochdichte Plasma-Intensität, wodurch eine hervorragende Beschichtungsqualität beim Hochleistungs-Impuls-Sputtern (HiPIMS) erreicht wird.
Mit dem modularen Aufbau, bestehend aus der DC-Spannungsversorgung und der HIPIMS-Pulseinheit, ist eine einfache Integration in bestehende Magnetron-Sputtersysteme möglich.
Der modularen Aufbau von DC-Leistungseinheit und Pulseinheit bietet eine Vielzahl an Kombinationen von unterschiedlichen Leistungsklassen mit ein und der selben Pulseinheit. Eine nachträgliche Erweiterung der DC-Leistung ist somit jederzeit möglich.
Einsatzgebiete
- Neuartige PVD HiPIMS Sputterverfahren zur Erzeugung von Hartstoffschichten mit besonders guten Verschleiß- und Korrosionsschutzeigenschaften.
- Pulsleistungen bis zu 12MW erzeugen eine extrem hohe Ionisationsdichte ohne dabei Materialtröpfchen (Droplets) zu bilden. Weitere Einsatzmöglichkeiten sind in der Plasma-Vorbehandlung von Oberflächen und Trench-filling und Ätzen.
Eigenschaften
- Hohe Spitzenleistung
- hoher Ionisierungsgrad von bis zu 50 %
- effektive Kathoden-/Targetnutzung
- einfache Anpassung an bestehende Kathoden und Prozesse
- aktive Lichtbogenunterdrückung mit stabilem Sputterprozess
- einstellbare Pulsdauer und -frequenz.
- gute stöchiometrische Schicht bei reaktiver Abscheidung
- minimale Schichtdefekte durch tropfenfreies Sputtern
- überlegene Schichtdichte und extreme Strukturkonformität
- ausgezeichnete Haftung und verringerte Rauheit
Höchste Flexibilität in Frequenz-und Pulsform
Bis zu 6 unterschiedliche Pulsformen einstellbar. Unipolar, DC, Bipolar und frei programmierbare Pulsmuster
Frequenzeinstellung von DC, 0.05 Hz bis zu 100kHz
Vorteile
- Hohe Schichtraten
- Reduzierte thermische Belastung
- Reduzierung der ARC-Entstehung
- Hohe Schichtqualität durch unterschiedliche Duty-Cycle oder Frequenzeinstellungen
- Kontrollierte Materialverbindungen durch flexible unterschiedlichen Pulszeiteinstellungen für den positiven und den negativen Pulsausgängen beim Dual Magnetron Sputtern
- Hohe Prozessausbeute
Flexible ARC-Behandlung
- Hohe Schichtraten
- Reduzierte thermische Belastung
- Reduzierung der ARC-Entstehung
- Hohe Schichtqualität durch unterschiedliche Duty-Cycle oder Frequenzeinstellungen
- Kontrollierte Materialverbindungen durch flexible unterschiedlichen Pulszeiteinstellungen für den positiven und den negativen Pulsausgängen beim Dual Magnetron Sputtern
- Hohe Prozessausbeute
Vorteile
- Kurze Prozesszeit
- Hohe Schichtqualität
- Hohe Prozessausbeute
- Niedrige Teilchen Kontamination
- Geringerer Targetverschleiß
Energie Effizienz
Bis zu 30% Energieeinsparung durch Energierückgewinnung in die Kondensatorbatterie während der Puls-Pausezeiten
Vorteil
- Niedrige Betriebskosten
- Ermöglicht eine Kleinere Dimensionierung der DC-Spannungsversorgung
Zubehör
- Tigger-Synchronisationsmodul zur Synchronisation von mehreren Pulsgeneratoren der Serie MP1 und MP2, sowie zum zeitversetzten Pulsen über das Trigger-Eingangssignal.
- Profibus-Schnittstelle mit 15-pol Sub-D-Buchse
- Profibus-Schnittstelle mit Lichtwellenleiter-Übertragung
- Pulsstrom-Messaugang zur Visualisierung über ein Oszilloskop
- Pulsspannung-Messaugang zur Visualisierung über ein Oszilloskop