MP2-AS-HC Serie
Asymmetrisch Bipolare HIPIMS Generatoren von 35A - 1500A Pulsstrom
(Höhere Leistung auf Anfrage)
Die Asymmetrisch bipolaren HIPIMS Generatoren dienen zur hochionisierender Plasmaanregung auf höchstem Niveau.
Mit den unterschiedlich einstellbaren Spanungsamplituden getrennt für den positiven und den negativen Puls, sowie der getrennt einstellbaren Strom- und Leistungsregelung, erreicht die asymmetrisch bipolare Pulsstromversorgung der Serie MP2-AS die höchst mögliche Flexibilität für den optimalen Einsatz der unterschiedlichsten Beschichtungsverfahren.
Für den asymmetrische Pulsbetrieb werde zwei DC Spannungsversorgungen benötigt, die über die Pulseinheit gesteuert werden.
Eine integrierten Umschalteinrichtung beietet die Möglichkeit die asymmetrische Pulsstromversorgung auch mit nur einer DC-Spannungsversorgung im "sysmmetrisch bipolaren Pulsbetrieb" zu betreiben.
Einsatzgebiete
- Neuartige PVD HiPIMS Sputterverfahren zur Erzeugung von Hartstoffschichten mit besonders guten Verschleiß- und Korrosionsschutzeigenschaften.
- Pulsleistungen bis zu 12MW erzeugen eine extrem hohe Ionisationsdichte ohne dabei Materialtröpfchen (Droplets) zu bilden. Weitere Einsatzmöglichkeiten sind in der Plasma-Vorbehandlung von Oberflächen und Trench-filling und Ätzen.
Eigenschaften
- Hohe Spitzenleistung
- hoher Ionisierungsgrad von bis zu 50 %
- effektive Kathoden-/Targetnutzung
- einfache Anpassung an bestehende Kathoden und Prozesse
- aktive Lichtbogenunterdrückung mit stabilem Sputterprozess
- einstellbare Pulsdauer und -frequenz.
- gute stöchiometrische Schicht bei reaktiver Abscheidung
- minimale Schichtdefekte durch tropfenfreies Sputtern
- überlegene Schichtdichte und extreme Strukturkonformität
- ausgezeichnete Haftung und verringerte Rauheit
Vorteile
- Hohe Schichtraten
- Reduzierte thermische Belastung
- Reduzierung der ARC-Entstehung
- Hohe Schichtqualität durch unterschiedliche Duty-Cycle oder Frequenzeinstellungen
- Beste Kontrolle unterscheidlicher Materialverbindungen durch flexible unterschiedlichen Pulszeiteinstellungen, sowie Pulsspannungsamplituden getrennt für den positiven und den negativen Pulsausgang beim Dual Magnetron Sputtern
- Hohe Prozessausbeute
8 einstellbare Pulsformen
Flexible ARC-Behhandlung
- Hohe Schichtraten
- Reduzierte thermische Belastung
- Reduzierung der ARC-Entstehung
- Hohe Schichtqualität durch unterschiedliche Duty-Cycle oder Frequenzeinstellungen
- Kontrollierte Materialverbindungen durch flexible unterschiedlichen Pulszeiteinstellungen für den positiven und den negativen Pulsausgängen beim Dual Magnetron Sputtern
- Hohe Prozessausbeute
Vorteile
- Kurze Prozesszeit
- Hohe Schichtqualität
- Hohe Prozessausbeute
- Niedrige Teilchen Kontamination
- Geringerer Targetverschleiß
Energieeinsparung
Bis zu 30% Energieeinsparung durch Energierückgewinnung in die Kondensatorbatterie während der Puls-Pausezeiten
Vortiele
- Niedrige Betriebskosten
- Ermöglicht eine Kleinere Dimensionierung der DC-Spannungsversorgung
Zubehör
- Tigger-Synchronisationsmodul zur Synchronisation von mehreren Pulsgeneratoren der Serie MP1 und MP2, sowie zum zeitversetzten Pulsen über das Trigger-Eingangssignal.
- Profibus-Schnittstelle mit 15-pol Sub-D-Buchse
- Profibus-Schnittstelle mit Lichtwellenleiter-Übertragung
- Pulsstrom-Messaugang zur Visualisierung über ein Oszilloskop
- Pulsspannung-Messaugang zur Visualisierung über ein Oszilloskop